新宿ファッションフィールド2020 デザイン画募集

募集要項(両面)のサムネイルテーマに基づいたファッションデザイン画を大募集します。
今年のテーマは「double」です。テーマをもとに、あなたが着てみたい一着を描いてみてください。
たくさんのご応募をお待ちしております!
※新型コロナウイルスの影響を考慮し、「作品制作部門」と「手作り雑貨店」の募集は行いません。
 
 

新宿ファッションフィールド2020のテーマ

 

double(ダブル)

 

主に「二倍」「ふたつ」「二重」「対(つい)の」「二様の」「裏表のある」などの意を表す
ワイシャツの袖そでやズボンの襟えりに折り返しのあるものやダブルカフスなどのファッション用語としても多用
そのほか「2020」「ダブる」など

※2020年、私達が想い描いていた理想とは裏腹に、その現実はこれまでの私達の暮らしや常識を大きく覆し、多くの物事を奪い去りながら、一方では新たな可能性を次々と生み出しています。
決して忘れることのできない『2020』というこの時代のなかで、幾重にも重なりあった人々の感情を冷静に俯瞰しながら、今あらためて湧き上がる発想を駆使して、あっと驚かせるような一着を表現してください。

 

募集

デザイン画部門

テーマに基づいた手描きのデザイン画(A4サイズ)を応募期限内に提出。
メンズ、レディースどちらでも可。
審査によって、金賞・銀賞・銅賞・新宿区長賞・協賛企業賞を選出し、賞状および副賞を授与。
※作品を制作する必要はありません。
※審査はテーマにふさわしいものを選考します。
※絵の技術を評価するものではありません。

 

賞(予定)

入賞者には副賞として、賞金(全て商品券)と賞状を授与します。

金賞(1名):2万円 / 銀賞(1名):1万円 / 銅賞(2名):5千円
新宿区長賞:1万円
協賛企業賞:各1万円
※協賛企業賞は商品券もしくは記念品となります。
  • アバハウスインターナショナル賞
  • 伊勢丹新宿本店賞
  • シップス賞
  • ジュン賞
  • 新宿オカダヤ本店賞
  • ビームス賞
 

応募資格

どなたでも
 

応募規定・注意事項

  1. 今回のテーマに沿った未発表のオリジナル作品であること
  2. 応募点数は無制限(デザインの重複は不可)
  3. 入選作品の著作権は主催者に帰属する
 

応募方法

  • A4サイズの画用紙(縦297mm×横210mm)を縦に使用し、必ず彩色(画材は自由、デジタル画像の出力やカラーコピーは不可)を施して応募すること。
  • 1点ごとに作品の余白へバックスタイル(裏側のデザイン)を描くこと。
  • デザイン画の裏面には、申込用紙に漏れなく記入をしたものを切り取り貼付すること。
  • 応募した作品は返却しません。(必ずカラーコピーなどの控えをとること)
募集要項・申込用紙 → PDF

応募期間:2020年10月21日(水)~31日(土)必着

 

審査方法

  • 複数名の審査員による非公開審査。
  • 全応募作品の中からテーマ性、独創性、色彩感覚、トータルバランスを審査し入選作品20点を選出。その中から各賞を決定。(賞が重複する場合あり)
  • 主催者事務局スタッフは審査を行いません。
 

発表

12月20日(日)予定
審査実施後に入選者へ個別連絡。新宿文化センターウェブサイト上で入選者および入賞者を発表。落選者への連絡は行いません。

 

問合わせ・応募先

新宿区立新宿文化センター(公益財団法人新宿未来創造財団)
〒160-0022 新宿区新宿6‐14‐1
Tel:03‐3350‐1141

※応募の際に頂いた個人情報は、新宿未来創造財団個人情報保護規定に基き、本事業以外では使用いたしません。